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德國(guó)Hellma赫爾瑪晶體材料氟化鈣CaF?氟化鋇BaF?技術(shù)參數(shù)

發(fā)布時(shí)間： 2026-03-31　　點(diǎn)擊次數(shù)： 76次

德國(guó)Hellma赫爾瑪晶體材料氟化鈣CaF?氟化鋇BaF?技術(shù)參數(shù)

Hellma Materials和CVD Ceramics專注于高品質(zhì)晶體和陶瓷光學(xué)材料的研發(fā)與生產(chǎn)，服務(wù)于多個(gè)行業(yè)領(lǐng)域，包括微光刻、光學(xué)、激光技術(shù)和輻射檢測(cè)等。憑借長(zhǎng)期積累的技術(shù)專長(zhǎng)以及對(duì)客戶需求的高度關(guān)注，依托產(chǎn)品獲得的市場(chǎng)認(rèn)可與穩(wěn)定一致的質(zhì)量，成為眾多客戶可信賴的供應(yīng)商。
主要產(chǎn)品涵蓋：氟化鈣晶體、閃爍晶體、氟化晶體、CVD硫化鋅Cleartran®、激光晶體、CVD硒化鋅。


氟化鈣晶體（CaF?）—— 適用于UV/VIS/IR應(yīng)用的光學(xué)材料

多年來，Hellma Materials CaF? 一直作為半導(dǎo)體生產(chǎn)微光刻領(lǐng)域的光學(xué)關(guān)鍵材料被廣泛應(yīng)用，已成為投影和照明光學(xué)中準(zhǔn)分子激光光學(xué)器件的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)材料。其獨(dú)特的光學(xué)特性，為各類高級(jí)應(yīng)用的實(shí)現(xiàn)提供了有力支撐。

應(yīng)用領(lǐng)域

依托優(yōu)良的光學(xué)質(zhì)量，以及在紫外、可見分光光度計(jì)和紅外光譜范圍內(nèi)的良好透射率，Hellma Materials CaF? 可應(yīng)用于多個(gè)場(chǎng)景，具體包括：

  • 紅外光學(xué)器件

  • 天文儀器用光學(xué)元件

  • 天基光學(xué)器件

  • 顯微鏡光學(xué)元件

  • 光譜光學(xué)領(lǐng)域

  • 紫外光學(xué)器件

  • 激光窗口

  • 準(zhǔn)分子激光光學(xué)器件

  • 顯微光刻光學(xué)器件

產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)

Hellma Materials 的 Lithotec® CaF? 具備以下獨(dú)特光學(xué)特性：

  • 具備從深紫外到紅外的高寬帶透射率，透射范圍覆蓋130nm 至 8μm

  • 低折射率（nd = 1.43384）

  • 低光譜色散（vd = 95.23）

  • 針對(duì)157nm、193nm、248nm 準(zhǔn)分子激光光學(xué)器件，具備良好的激光耐久性

  • 具備合格的高能粒子和輻射耐受性

  • 產(chǎn)品直徑可達(dá)到420mm

氟化鋇（BaF?）—— VIS/IR光學(xué)材料

Hellma Materials BaF? 在可見光和紅外光譜范圍內(nèi)具備良好的透射率，透射范圍可高達(dá)12μm，這一特性使其可作為寬帶光學(xué)材料，應(yīng)用于可見光和紅外雙通道系統(tǒng)，適配可見光與熱成像相關(guān)場(chǎng)景。
BaF? 的折射率低于多數(shù)其他光學(xué)材料，能夠有效減少由菲涅耳反射引發(fā)的傳輸損耗，提升光學(xué)系統(tǒng)的傳輸效率。

應(yīng)用領(lǐng)域

Hellma Materials BaF? 作為一種性能優(yōu)良的光學(xué)材料，適配可見光和紅外光譜范圍的寬光譜需求，可應(yīng)用于多種復(fù)雜場(chǎng)景，具體包括：

  • 集成VIS通道的熱成像和夜視系統(tǒng)

  • 天文儀器用光學(xué)元件

  • 紅外激光光學(xué)器件

  • 用于檢測(cè)高能γ輻射>5Me的閃爍體

產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)

Hellma Materials BaF? 作為一種具有獨(dú)特性能的光學(xué)材料，核心優(yōu)勢(shì)如下：

  • 可見光透射率良好，紅外透射范圍可擴(kuò)展至12μm

  • 低折射率（nd = 1.47447）

  • 低光譜色散（vd = 81.61）

  • 產(chǎn)品直徑可達(dá)到360mm

德國(guó)Hellma赫爾瑪晶體材料氟化鈣CaF?氟化鋇BaF?技術(shù)參數(shù)

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